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低温color filter像素化技术


学科领域:电子信息技术 需求类型:技术难题 所在地:江苏省 苏州 吴江
投入预算:500万元 用户姓名:总站
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要求低温彩膜(color filter)加工工艺小于100-120℃,能够实现像素化,像素大小约为5um*5um,采用干刻或者湿刻技术,刻蚀精度小于0.5um,无Tape角要求,能够对应每天4片Wafe的加工量,应用于硅基OLED微显示器的全彩化。 (来源:中科院苏州育成中心、苏州市生产力促进中心)
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