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工业化硬质涂层制备装置及涂层工艺技术

交易信息: 合作开发-面议元     
专利: 技术成熟度:可以量产  

技术领域:新材料及其应用 应用领域:新材料 最后更新时间:2017-07-11 15:50:39
所在地:中国 安徽省 合肥 
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本项目研制出基于HIS技术和闭合场非平衡磁控溅射方法的大功率离子镀膜装置,开发出新型纳米硬质复合薄膜制备工艺技术,可用于制备多种复合硬质涂层。技术指标 ①最大溅射功率4′5 kW;②背底真空度£10P-5P Pa;③磁控溅射靶4个;④工件对地单极性脉冲负偏压0~1 kV可调;⑤溅射温度:室温~450℃可调;⑥三轴联动的工具架。涂层主要技术指标:①涂层厚度3~5微米;②涂层硬度330 GPa;③涂层最高工作温度3900℃。



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